इंडियम ऑक्साईड

वर्णन

इंडियम ऑक्साईड इन₂O₃ किंवा इंडियम ट्रायऑक्साइड 99.99%, 99.995%, 99.999% आणि 99.9999%, एक मायक्रो पावडर किंवा नॅनोपार्टिकल हलका-पिवळा घन पावडर, CAS 1312-43-3, घनता 7.18g/cm³ आणि सुमारे 2000° वितळत आहेC, एक स्थिर सिरॅमिक सारखी सामग्री आहे जी पाण्यात अघुलनशील आहे, परंतु गरम अजैविक ऍसिडमध्ये विद्रव्य आहे.इंडियम ऑक्साईड इन₂O₃लहान प्रतिरोधकता, उच्च उत्प्रेरक क्रियाकलाप आणि ऑप्टोइलेक्ट्रॉनिक ऍप्लिकेशन्ससाठी विस्तृत बँड गॅप असलेली एन-टाइप सेमीकंडक्टर फंक्शन सामग्री आहे. इंडियम ऑक्साईड इन₂O₃वेस्टर्न मिनमेटल्स (SC) कॉर्पोरेशनमध्ये 99.99%, 99.995%, 99.999% आणि 99.9999% 2-10 मायक्रॉन किंवा -100 मेश पावडर आणि नॅनो ग्रेड आकारात शुद्धतेसह वितरित केले जाऊ शकते, सीलबंद प्लास्टिक पिशवीसह पॉलिथिलीन बाटलीमध्ये पॅक केलेले 1 किलो, किंवा 1kg, 2kg 5kg कंपोझिट अॅल्युमिनियम पिशवीमध्ये बाहेरील पुठ्ठा बॉक्ससह, किंवा परिपूर्ण समाधानासाठी सानुकूलित वैशिष्ट्यांनुसार.

अर्ज

इंडियम ऑक्साईड इन₂O₃ फोटोइलेक्ट्रिक, गॅस सेन्सर, पातळ फिल्म इन्फ्रा-रेड रिफ्लेक्टर्स, कॅटॅलिस्ट ऍप्लिकेशन, स्पेशॅलिटी ग्लास कलर अॅडिटीव्ह, अल्कलाइन बॅटरी आणि उच्च विद्युत् विद्युत स्विच आणि संपर्क, मेटॅलिक मिररचे संरक्षणात्मक आवरण आणि इलेक्ट्रो-ऑप्टिकलच्या सेमीकंडक्टर फिल्ममध्ये व्यापक वापर आहे. डिस्प्ले इ. मध्ये₂O₃डिस्प्ले, ऊर्जा कार्यक्षम विंडो आणि फोटोव्होल्टेइकसाठी ITO लक्ष्यासाठी मुख्य घटक आहे.याव्यतिरिक्त, इन₂O₃ p-InP, n-GaAs, n-Si आणि इतर अर्धसंवाहक यांसारख्या पदार्थांसह हेटेरोजंक्शन तयार करण्यासाठी ICs मध्ये एक प्रतिरोधक घटक आहे.दरम्यान, पृष्ठभागाचा प्रभाव, लहान आकार आणि मॅक्रोस्कोपिक क्वांटम टनेलिंग प्रभाव,नॅनो इन₂O₃ हे प्रामुख्याने ऑप्टिकल आणि अँटिस्टॅटिक कोटिंग्ज, पारदर्शक प्रवाहकीय कोटिंग्जसाठी आहे.